接触角测量仪在半导体制造过程中有着广泛的应用，主要用来评估表面处理的效果以及涂覆的质量。

在半导体制造过程中，为了提高材料的粘附性和润湿性，常常需要对表面进行处理，如清洗、氧化、硅化等。接触角测量可以帮助确定表面处理的效果，从而优化工艺，提高材料的性能。

在半导体器件制备中，常常需要在衬底表面涂覆薄膜，如聚合物薄膜、金属薄膜等。薄膜的润湿性对于涂覆质量和性能有着重要影响。接触角测量可以帮助了解涂层和衬底之间的相互作用，从而调整涂覆工艺。

此外，接触角测量仪还可用于表征硅晶片的润湿性及其他制造工艺的效率特性化，，如刻蚀、钝化、超声波搅拌等表面处理及清洁工艺。有研究表明，接触角可用于评估半导体制造工艺的效率，例如通过测量前进后退角和滚动滑动角等功能。